Partenariat stratégique en métrologie entre Zeiss et la Fab’Academy du Pôle formation de l’UIMM Pays de la Loire
Zeiss Industrial Quality Solutions, la division dédiée à l’activité de métrologie industrielle a annoncé fin janvier son partenariat avec la Fab’Academy, le Pôle Formation de l’UIMM Pays de La Loire ; celui-ci est dédié au développement des compétences en métrologie industrielle. Dans ce cadre, le fabricant allemand met à disposition dans les locaux de la Fab’Academy d’Angers une machine de mesure tridimensionnelle DuraMax, intégrée à l’atelier du centre de formation.
Cette installation permettra aux apprenants de se former sur des équipements à la pointe de la technologie, tout en assurant des démonstrations pratiques et des mises en situation réalistes en métrologie. Aussi, en s’appuyant sur des situations concrètes et des usages industriels réels, ce partenariat vise à proposer des formations en phase avec les attentes du marché, tout en contribuant à la diffusion des bonnes pratiques en matière de qualité, de contrôle et de précision.
Une étape du Software Tour Zeiss organisée le 3 février 2026 sur le campus de la Fab’Academy d’Angers
Dans l’optique de fidéliser ses clients et de leur apporter des actualités sur les logiciels de métrologie qu’ils utilisent au quotidien, Zeiss organise chaque année son évènement « Software Tour » sur différentes villes de France et en Suisse. Généralement réalisée dans les Quality Excellence Centers de Zeiss, l’édition du grand Ouest se tiendra le mardi 3 février 2026 à Angers, au sein des locaux du Pôle Formation de l’UIMM.
Les participants découvriront en pratique les dernières évolutions des solutions logicielles Zeiss, de la planification à l’analyse, à travers des présentations, des ateliers interactifs et des échanges avec des experts. Cette initiative met en lumière le partenariat entre la Fab’Academy et Zeiss et favorisera ainsi les interactions entre les professionnels du secteur industriel régional. Plus d’informations sur cet évènement Software Tour.
Une collaboration tournée vers l’innovation et l’employabilité
Pensé comme un partenariat de long terme, ce projet ambitionne de faire évoluer en continu les contenus et formats de formation afin d’intégrer les évolutions technologiques et les besoins émergents des entreprises industrielles. Zeiss et la Fab’Academy entendent ainsi co-construire des actions de formation adaptées à différents publics : jeunes en formation initiale, professionnels en activité ou personnes en reconversion. L’objectif est commun : renforcer l’employabilité et accompagner la montée en compétences sur des métiers à forte valeur ajoutée.
Ce partenariat s’inscrit également dans une dynamique d’innovation pédagogique, favorisant les échanges entre formateurs, experts industriels et entreprises partenaires, au service de la compétitivité du tissu industriel régional.
Scanner 3D : InnovMetric et Faro Creaform renforcent leur partenariat
InnovMetric, en collaboration avec Faro Creaform, (groupe Ametek), fournisseur mondial de solutions de numérisation 3D et de MMT portables, ont intégré à PolyWorks Inspector l’acquisition de données des scanners 3D multilignes à référencement automatique de Faro Creaform. Objectif ? Les utilisateurs peuvent désormais bénéficier de la visualisation des données en temps réel et d’une boîte à outils complète d’analyse dimensionnelle et […]
Fusion entre Metrologic Group et DCS et création de Metrologic DCS
Metrologic Group et Dimensional Control Systems (DCS) s’unissent pour former Metrologic DCS, une nouvelle marque au sein du secteur Intelligent Manufacturing du groupe Sandvik, avec une ambition claire : créer un leader mondial dans le domaine des logiciels d’intelligence qualité. Cette étape marque la consolidation de deux leaders reconnus en une seule entreprise spécialement conçue […]
Semi-conducteurs : Siemens fait l’acquisition de Canopus AI pour introduire la métrologie basée sur l’IA
Siemens annonce qu’elle vient d’acquérir Canopus AI, une entreprise à la pointe de l’innovation dans le domaine des solutions de métrologie computationnelle et basée sur l’IA, afin de permettre aux fabricants de semi-conducteurs d’atteindre de nouveaux niveaux de précision et d’efficience dans les processus d’inspection des plaquettes et des masques. Cette acquisition renforce la position de […]
